深反應(yīng)離子刻蝕(drie)及低溫等離子體增強化學(xué)氣相沉積(pevcd)等離子處理系統(tǒng)主要性能簡介. 等離子工藝處理的研發(fā)需要多功能且可靠的設(shè)備。為了滿足等離子研究日新月異的要求,用戶選購的系統(tǒng)設(shè)備滿足最大范圍的等離子工藝參數(shù)需要,工藝驗證需要極其高的可重復(fù)性,必須方便改造用于新的等離子工藝需要。我們相信il裝載互鎖式(load lock)感應(yīng)耦合等離子(icp)蝕刻/沉積等離子系統(tǒng)滿足這些非常
更新時間:2025-07-17