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離子濺射儀產(chǎn)品及廠家
CIS200全自動(dòng)真空離子濺射儀噴金儀 直流濺射鍍膜導(dǎo)電處理
全自動(dòng)真空離子濺射儀噴金儀 直流濺射鍍膜導(dǎo)電處理優(yōu)勢(shì)看得見:雙路氣體接入兩種氣體自由接入;全自動(dòng)手動(dòng)雙模式,全自動(dòng)手動(dòng)雙模式,即可一鍵工作,也可自由設(shè)定;真空腔體加厚,真空腔體加厚可承受更大的真空度;人機(jī)界面觸控屏,人機(jī)界面觸控屏,方便操作,減少控制失誤。
更新時(shí)間:
2025-07-18
該公司產(chǎn)品分類:
上海眾瀕科技有限公司
IL-50多艙體式等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PEVCD)/蝕刻(ETCH)系統(tǒng)
• 裝載互鎖式(load lock)多腔體等離子系統(tǒng)• 晶圓料盒至晶圓料盒式(cassette-cassette processing)等離子處理• 破壞真空的情況下最多可沉積四種薄膜• 基片尺寸:125 x 125mm,156 x 156mm 及200mm直徑基片(可采用裝載器處理小尺寸基片).• 常規(guī)薄膜:siox & sinx - a- si• 研發(fā)、試制生產(chǎn)及生
更新時(shí)間:
2025-07-17
該公司產(chǎn)品分類:
極科有限公司
IL-ICP裝載互鎖式(Load Lock)感應(yīng)耦合等離子(ICP)處理系統(tǒng)
深反應(yīng)離子刻蝕(drie)及低溫等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(pevcd)等離子處理系統(tǒng)主要性能簡(jiǎn)介. 等離子工藝處理的研發(fā)需要多功能且可靠的設(shè)備。為了滿足等離子研究日新月異的要求,用戶選購(gòu)的系統(tǒng)設(shè)備滿足最大范圍的等離子工藝參數(shù)需要,工藝驗(yàn)證需要極其高的可重復(fù)性,必須方便改造用于新的等離子工藝需要。我們相信il裝載互鎖式(load lock)感應(yīng)耦合等離子(icp)蝕刻/沉積等離子系統(tǒng)滿足這些非常
更新時(shí)間:
2025-07-17
該公司產(chǎn)品分類:
極科有限公司
PS-圓筒式等離子處理系統(tǒng)
ps系列圓筒式等離子處理系統(tǒng)重新定義了圓筒式等離子處理工藝。該等離子處理系統(tǒng)基于模塊化設(shè)計(jì)制造,采用一款通用的真空處理艙及機(jī)箱,多款電極模塊方便整體系統(tǒng)的組裝及配置。ps系列圓筒式等離子處理系統(tǒng)帶給用戶方便操作,提供多種等離子處理工藝、方便維護(hù)及性價(jià)比高的系統(tǒng)比業(yè)內(nèi)氣體等離子處理系統(tǒng)更具競(jìng)爭(zhēng)力。
更新時(shí)間:
2025-07-17
該公司產(chǎn)品分類:
極科有限公司
共134條
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