光學(xué)測(cè)量?jī)x產(chǎn)品及廠家
瑞士nanosurf 原子力顯微鏡coreafm ，非常智能地聯(lián)合了原子力顯微鏡的核心部件來(lái)實(shí)現(xiàn)最多功能化與用戶方便使用性. 正是由于這種基礎(chǔ)的設(shè)計(jì), coreafm非常合理的實(shí)現(xiàn)了最優(yōu)化的原子力顯微鏡的功能.
更新時(shí)間:2026-01-16
韓國(guó)ecopia霍爾效應(yīng)測(cè)量系統(tǒng)hms3000，hms5000，用于研究半導(dǎo)體材料/光電材料的電學(xué)特性，可以測(cè)量材料在不同溫度、磁場(chǎng)下的載流子濃度、遷移率、電阻率、霍爾系數(shù)及載流子類型。
更新時(shí)間:2026-01-16
美國(guó) mmr 霍爾效應(yīng)測(cè)量系統(tǒng) h5000，用于研究光電材料的電學(xué)特性，利用范德堡測(cè)量技術(shù)測(cè)量材料在不同溫度、磁場(chǎng)下的載流子濃度、遷移率、電阻率、霍爾系數(shù)及載流子類型。整套系統(tǒng)主要包括控制器、樣品室、磁場(chǎng)三部分。
更新時(shí)間:2026-01-16
半導(dǎo)體測(cè)試探針臺(tái)kup007，emp100c，emp100b，emp50s
更新時(shí)間:2026-01-16
德國(guó)mecwins 掃描式激光分析儀scala，它是用激光入射掃描樣品表面，收集反射信號(hào)得到樣品表面的三維形貌和特征。
更新時(shí)間:2026-01-16
美國(guó)nanovea三維表面形貌儀hs1000型，是一款高速的三維形貌儀，最高掃描速度可達(dá)1m/s,采用國(guó)際領(lǐng)先的白光共聚焦技術(shù)，可實(shí)現(xiàn)對(duì)材料表面從納米到毫米量級(jí)的粗糙度測(cè)試，具有測(cè)量精度高，速度快，重復(fù)性好的優(yōu)點(diǎn)，該儀器可用于測(cè)量大尺寸樣品或質(zhì)檢現(xiàn)場(chǎng)使用。
更新時(shí)間:2026-01-16
德國(guó) yxlon 高分辨率ｘ射線檢測(cè)設(shè)備 y.cougar smt 平板探測(cè)器（標(biāo)配） y.cheetah 高速平板探測(cè)器（標(biāo)配）
更新時(shí)間:2026-01-16
美國(guó)royec芯片拾取及放置系統(tǒng)die pick & place systems,new !! ap+ 全自動(dòng)芯片分選系統(tǒng)
更新時(shí)間:2026-01-16
美國(guó)royec半自動(dòng)型芯片拾取系統(tǒng)de35-st ,最小200微米芯片拾取,可選配背面，側(cè)面檢測(cè),可選配芯片轉(zhuǎn)向功能.
更新時(shí)間:2026-01-16
美國(guó)rti自動(dòng)特性圖示儀 mt century curve tracer，是一個(gè)性價(jià)比較高的曲線追蹤設(shè)備。最多到96個(gè)channel，提供4種型號(hào)可供客戶選擇，mt century curve tracer 與rti其他大型curve trace擁有一樣的可靠性，功率和軟件。像其他rti機(jī)型一樣，mt century系統(tǒng)的設(shè)計(jì)有與950系列的測(cè)試夾具及其它專用夾具連接的接口。
更新時(shí)間:2026-01-16
德國(guó)klocke nanotech納米級(jí)三維測(cè)量?jī)x3d nanofinger，是一種實(shí)用的納米精度坐標(biāo)和形貌綜合測(cè)量設(shè)備。由臺(tái)架、控制系統(tǒng)、探頭、針尖組成. 可測(cè)量樣品外形尺寸，表面輪廓、粗糙度等，并可與超精密微加工、微組裝系統(tǒng)組合，進(jìn)行在線檢測(cè)、質(zhì)量控制等。
更新時(shí)間:2026-01-16
日本a&d粒子計(jì)數(shù)器（粒度計(jì)）sv-1a,是使用點(diǎn)監(jiān)測(cè)的低成本替代設(shè)備,計(jì)數(shù)值高達(dá)2,000,000個(gè)粒子/ft.
更新時(shí)間:2026-01-16
美國(guó)filmetrics 薄膜厚度測(cè)量系統(tǒng)f20，f30，f40，f50，f60，f3-xxt 系列，臺(tái)式薄膜厚度測(cè)量系統(tǒng)
更新時(shí)間:2026-01-16
美國(guó) sonix 超聲波掃描顯微鏡:echo-vs, echo pro™全自動(dòng)超聲波掃瞄顯微鏡,sonix echo vs™ 是專為更高精度要求，更復(fù)雜元器件設(shè)計(jì)的新一代設(shè)備。echo pro™全自動(dòng)超聲波掃瞄顯微鏡,編程自動(dòng)判別缺陷,高產(chǎn)量,無(wú)需人員重復(fù)設(shè)置.
更新時(shí)間:2026-01-16
德國(guó)bruker傅氏轉(zhuǎn)換紅外光譜儀ftir -利用紅外線光譜經(jīng)傅利葉轉(zhuǎn)換進(jìn)而分析雜質(zhì)濃度的光譜分析儀器。
更新時(shí)間:2026-01-16
德國(guó)bruker ft-nir光譜儀tango,mpa,matrix-i.ft-nir光譜儀已經(jīng)在包括制藥，食品，農(nóng)業(yè)和化學(xué)行業(yè)在內(nèi)的所有行業(yè)的質(zhì)量控制應(yīng)用中得到了很好的應(yīng)用。它為耗時(shí)的濕法化學(xué)方法和色譜技術(shù)提供了一種實(shí)用的替代方法。ft-nir無(wú)破壞性，不需要樣品制備或危險(xiǎn)化學(xué)品，使其定量和定性分析快速可靠。
更新時(shí)間:2026-01-16
德bruker光學(xué)輪廓儀contorugt-表面量測(cè)系統(tǒng)-供生產(chǎn)qc/qa及研發(fā)研用的非接解觸型光學(xué)輪廓儀
更新時(shí)間:2026-01-16
sentech ald實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)儀是一種新型的光學(xué)診斷工具，是心靈超高分辨率的單一ald循環(huán)。在不破壞真空的條件下分析薄膜特性(生長(zhǎng)速率，厚度，折射率)，在短時(shí)間內(nèi)開(kāi)發(fā)新工藝、實(shí)時(shí)研究ald循環(huán)中的反應(yīng)機(jī)理是sentech ald實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)儀的主要應(yīng)用。
更新時(shí)間:2026-01-16
美國(guó)ogp光學(xué)式坐標(biāo)測(cè)量?jī)x zip 250 ，5:1 accucentric 電動(dòng)變焦透鏡，在每次放大變倍時(shí)自動(dòng)校準(zhǔn)，可選配接觸式探頭、激光和微型探針。
更新時(shí)間:2026-01-16
jy—pha接觸角測(cè)定儀，用于液體對(duì)固體的浸潤(rùn)性，通過(guò)測(cè)量液體對(duì)固體的接觸角、計(jì)算、測(cè)定液體對(duì)固體的附著力，張力及固體表面能等指標(biāo)。
更新時(shí)間:2026-01-16
100標(biāo)準(zhǔn)型接觸角測(cè)量?jī)x，采用高性能日本原裝進(jìn)口工業(yè)機(jī)芯，工業(yè)級(jí)連續(xù)變倍顯微鏡，確保圖像的真實(shí)性，獲取最佳的成像效果。
更新時(shí)間:2026-01-16
美associated 耐壓測(cè)試儀hypotmax 7710 ，是一款12 kvdc hipot測(cè)試儀，用于為電纜、電線、線束和電氣元件測(cè)試提供高直流輸出電壓。該產(chǎn)品非常易于使用，并為安全有效的測(cè)試提供了各種特性。它有專利smartgfi®操作,它還包括電荷lo®和斜坡嗨®系統(tǒng)。最后，該系統(tǒng)具有遠(yuǎn)程安全聯(lián)鎖和數(shù)控電弧檢測(cè)系統(tǒng)。
更新時(shí)間:2026-01-16
montana 新型超精細(xì)多功能無(wú)液氦低溫光學(xué)恒溫器完全擺脫了液氦。完全閉循環(huán)的制冷系統(tǒng)只需要極少量的氦氣即可讓系統(tǒng)達(dá)到極限低溫。系統(tǒng)具有超快降溫、超低震動(dòng)和超高的溫度穩(wěn)定性。全自動(dòng)化的控制軟件，簡(jiǎn)化了用戶的操作流程。
更新時(shí)間:2026-01-16
德國(guó)attocube磁共振顯微鏡/低溫強(qiáng)磁場(chǎng)磁共振顯微鏡attocsfm,完美集成了由完全無(wú)磁性材料制備的高數(shù)值孔徑（na）共聚焦顯微鏡與原子力顯微鏡來(lái)滿足odmr實(shí)驗(yàn)的需求。
更新時(shí)間:2026-01-16
sinton少子壽命測(cè)試儀wct-120，suns-voc，硅片少子壽命測(cè)試系統(tǒng)，采用了獨(dú)特的測(cè)量和分析技術(shù)，包括準(zhǔn)穩(wěn)定態(tài)光電導(dǎo)(qsspc)測(cè)量方法?？伸`敏地反映單、多晶硅片的重金屬污染及陷阱效應(yīng),表面復(fù)合效應(yīng)等缺陷情況。
更新時(shí)間:2026-01-16
布魯克bruker白光干涉光學(xué)輪廓儀 contour x, 滿足微納米表面測(cè)量需要
更新時(shí)間:2026-01-16
布魯克bruker contourx-200 三維光學(xué)輪廓儀，靈活的臺(tái)式表面形貌測(cè)量設(shè)備
更新時(shí)間:2026-01-16
布魯克 dektakxt 臺(tái)階儀（探針式表面輪廓儀）設(shè)計(jì)創(chuàng)新，實(shí)現(xiàn)了更高的重復(fù)性和分辨率，垂直高度重復(fù)性高達(dá) 5å。第十代 dektakxt臺(tái)階儀（探針式表面輪廓儀）的技術(shù)突破，實(shí)現(xiàn)了納米尺度的表面輪廓測(cè)量，從而可以廣泛的應(yīng)用于微電子器件，半導(dǎo)體，電池，高亮度發(fā)光二管的研發(fā)以及材料科學(xué)域。
更新時(shí)間:2026-01-16
日本rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-42b/42bf ( 光散射法）,寬廣的測(cè)試范圍，可測(cè)試 0.2~2.0um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準(zhǔn)的顆粒數(shù)據(jù)。
更新時(shí)間:2026-01-16
日本rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-42c ( 光散射法）,寬廣的測(cè)試范圍，可測(cè)試 0.5~20um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準(zhǔn)的顆粒數(shù)據(jù)。
更新時(shí)間:2026-01-16
日本理音 rion 粒子計(jì)數(shù)器 ks-20f，檢測(cè)粒徑為0.02μm的顆粒，從0.02μm到0.08μm可達(dá)7個(gè)通道
更新時(shí)間:2026-01-16
日本rion粒子計(jì)數(shù)器kc-01e ( 光散射法）,液體粒子計(jì)數(shù)器，測(cè)試粒徑（5個(gè)通道）：≥0.3μm， ≥0.5μm ， ≥1μm ， ≥2μm， ≥5μm
更新時(shí)間:2026-01-16
日本rion粒子計(jì)數(shù)器kc-03b ( 光散射法）,測(cè)試粒徑（5個(gè)通道）：≥0.3μm， ≥0.5μm ， ≥1μm ， ≥2μm， ≥5μm
更新時(shí)間:2026-01-16
lfa 467 hyperflash 閃射法導(dǎo)熱儀，自由選擇測(cè)試氣氛，優(yōu)化結(jié)構(gòu)設(shè)置與閃射光源，16位自動(dòng)進(jìn)樣器，高的測(cè)量效率，寬廣的溫度范圍，靈活配備冷卻系統(tǒng)，設(shè)計(jì)獨(dú)特，性能優(yōu)異，配備氙燈光源的，高溫測(cè)試系統(tǒng)，寬廣的溫度范圍，真空密閉爐體，確保氣氛純凈，防止氧化，內(nèi)置微型管式爐，更高的測(cè)量效率，高數(shù)據(jù)采集速率- 用于薄膜與高導(dǎo)熱材料的解決方案
更新時(shí)間:2026-01-16
oai is a world leader in uv liight & energy measurement instrumentation used for reliable accurate calibrated control of the hotolithography processes in the semiconductor
更新時(shí)間:2026-01-16
日本理學(xué)x射線衍射儀 tfxrd-300/200， 適用于near-fab application的無(wú)損方式xrd·mapping tool有多種光學(xué)元件可選的高精度測(cè)角儀，用于氮化鎵（gan)質(zhì)量管理，可對(duì)應(yīng)大規(guī)格晶圓的x射線衍射分析（xrd)系統(tǒng)
更新時(shí)間:2026-01-16
日本理學(xué)x射線衍射儀 tfxrd-300/200， 適用于near-fab application的無(wú)損方式xrd·mapping tool有多種光學(xué)元件可選的高精度測(cè)角儀，用于氮化鎵（gan)質(zhì)量管理，可對(duì)應(yīng)大規(guī)格晶圓的x射線衍射分析（xrd)系統(tǒng)
更新時(shí)間:2026-01-16
fr-mini 是一款緊湊型裝置，專為大學(xué)教育和研究實(shí)驗(yàn)室設(shè)計(jì)，用于快速、準(zhǔn)確和無(wú)損地表征各種不同的涂層。使用 fr-mini，用戶還可以在較寬的光譜范圍內(nèi)輕松進(jìn)行反射率和/或透射率測(cè)量。
更新時(shí)間:2026-01-16
fr-pro 膜厚測(cè)量?jī)x 用于表征1nm-3mm厚度范圍內(nèi)的 涂層的模塊化和可擴(kuò)展平臺(tái)。
更新時(shí)間:2026-01-16
fr-scanner 是一款緊湊的臺(tái)式測(cè)量工具，全自動(dòng)測(cè)繪涂層的厚度，基底適用于晶圓，掩膜版及其它材料。fr-scanner 可以快速和準(zhǔn)確地測(cè)量薄膜特性，比如厚度，折射系數(shù)，均勻性，色度等，真空吸盤可應(yīng)用于任何直徑或其它形狀的樣品。
更新時(shí)間:2026-01-16
fpd-vis-300 是一種快速光學(xué)檢測(cè)器，用于可視化和測(cè)量 320 nm 至 1100 nm 光譜范圍內(nèi)的激光束的時(shí)間特性。它具有硅 pin 光電二管，旨在將光信號(hào)轉(zhuǎn)換為電信號(hào)，然后使用示波器或頻譜分析儀等第三方測(cè)量?jī)x器進(jìn)行測(cè)量。fpd-vis-300 的上升時(shí)間為 300 皮。其反向偏置電壓由內(nèi)部電池提供。
更新時(shí)間:2026-01-16
fpd-ig-175 是一款快速光學(xué)檢測(cè)器，用于可視化和測(cè)量 900 nm 至 1700 nm 光譜范圍內(nèi)的激光束的時(shí)間特性。它有一個(gè) ingaas pin 光電二管，旨在將光信號(hào)轉(zhuǎn)換為電信號(hào)，然后使用示波器或頻譜分析儀等第三方測(cè)量?jī)x器進(jìn)行測(cè)量。fpd-ig-175 的上升時(shí)間為 175 皮。其反向偏置電壓由內(nèi)部電池提供。
更新時(shí)間:2026-01-16
fpd-ig-25 是一種快速光學(xué)檢測(cè)器，用于可視化和測(cè)量 900 nm 至 1700 nm 光譜范圍內(nèi)的激光束的時(shí)間特性。它有一個(gè) ingaas pin 光電二管，旨在將光信號(hào)轉(zhuǎn)換為電信號(hào)，然后使用示波器或頻譜分析儀等第三方測(cè)量?jī)x器進(jìn)行測(cè)量。fpd-ig-25 的上升時(shí)間為 25 皮。其反向偏置電壓由內(nèi)部電池提供。
更新時(shí)間:2026-01-16
beamwatch integrated自動(dòng)激光測(cè)量?jī)x用于自動(dòng)化制造的光束表征系統(tǒng) 實(shí)時(shí)自動(dòng)測(cè)量激光功率、焦散和焦點(diǎn)偏移支持單模激光器全自動(dòng)操作帶有好/壞信號(hào)的趨勢(shì)分析帶有時(shí)間戳的詳細(xì)報(bào)告無(wú)需更改測(cè)量系統(tǒng)即可使用不同類型的焊頭堅(jiān)固耐用，適用于工業(yè)生產(chǎn)環(huán)境輪班操作中頻繁測(cè)量的短測(cè)量時(shí)間
更新時(shí)間:2026-01-16
ns530a汽車前擋玻璃透光率儀具有的三個(gè)獨(dú)立測(cè)試單元分別為紫外，紅外，和可見(jiàn)光，顯示值為紅外透過(guò)率值，紫外透過(guò)率值和可見(jiàn)光透過(guò)率值。
更新時(shí)間:2026-01-16
ns11太陽(yáng)膜透過(guò)率測(cè)試儀的測(cè)試原理是采用紫外光源，可見(jiàn)光源和紅外光源照射被測(cè)透明物質(zhì)，感應(yīng)器分別三種光源的入射光強(qiáng)和透過(guò)被測(cè)透明物質(zhì)后的光強(qiáng)，透過(guò)光強(qiáng)與入射光強(qiáng)的比值即為透過(guò)率，用百分?jǐn)?shù)表示。
更新時(shí)間:2026-01-16
ns550ir油墨透光率儀的測(cè)試原理是采用紅外850nm光源，紅外940nm光源和可見(jiàn)550nm光源照射被測(cè)透明物質(zhì)，感應(yīng)器分別探測(cè)三種光源的入射光強(qiáng)和透過(guò)被測(cè)透明物質(zhì)后的光強(qiáng)，透過(guò)光強(qiáng)與入射光強(qiáng)的比值即為透過(guò)率,用百分?jǐn)?shù)表示。
更新時(shí)間:2026-01-16
ns13a光學(xué)透過(guò)率測(cè)量?jī)x的測(cè)試原理是采用紫外光源，紅外光源和可見(jiàn)光源照射被測(cè)透明物質(zhì)，感應(yīng)器分別探測(cè)三種光源的入射光強(qiáng)和透過(guò)被測(cè)透明物質(zhì)后的光強(qiáng)，透過(guò)光強(qiáng)與入射光強(qiáng)的比值即為透過(guò)率，用百分?jǐn)?shù)表示。
更新時(shí)間:2026-01-16
ns10a防爆膜測(cè)試儀的測(cè)試原理是采用紫外光源，紅外光源和可見(jiàn)光源照射被測(cè)透明物質(zhì)，感應(yīng)器分別探測(cè)三種光源的入射光強(qiáng)和透過(guò)被測(cè)透明物質(zhì)后的光強(qiáng)，透過(guò)光強(qiáng)與入射光強(qiáng)的比值即為透過(guò)率，用百分?jǐn)?shù)表示。
更新時(shí)間:2026-01-16
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