干燥箱/烘箱產(chǎn)品及廠家
后曝光氮?dú)夂嫦洌琾eb無塵烘箱所使用的高溫（100-130°c）會使光敏化合物擴(kuò)散，從而消除駐波波紋.百潔凈度無塵化，用于半導(dǎo)體，集成電路
更新時間:2026-01-16
潔凈無氧烘箱，氮?dú)鉄o氧 烘箱聚酰亞胺作為鈍化層和緩沖保護(hù)層在微電子工業(yè)上應(yīng)用非常廣泛。pi 涂層可有效地阻滯電子遷移、防止腐蝕。pi 層保護(hù)的元器件具有很低的漏電流，可增加器件的機(jī)械性能，防止化學(xué)腐蝕，也可有效地增加元器件的抗潮濕能力。pi 薄膜具有緩沖功能，可有效地降低由于熱應(yīng)力引起的電路崩裂斷路，減少元器件在后續(xù)的加工、封裝和后處理過程中的損傷；
更新時間:2026-01-16
hmds疏水烘箱，hmd真空烘箱是涂膠對硅片表面進(jìn)行處理，可以增加硅片表面水分子的接觸角，使襯底表面從親水性轉(zhuǎn)化為疏水性
更新時間:2026-01-16
六箱體氮?dú)夂嫦?，多倉式潔凈烘箱于光刻膠固化、堅膜烘烤、治具干燥、芯片封裝、碳化硅襯底生產(chǎn)、外延片烘烤、墨點(diǎn)烘干的特殊工藝要求，適用于觸摸屏、晶圓、led、pcb板、ito玻璃等精密電子、太陽能
更新時間:2026-01-16
hmds黏附機(jī) 光刻膠hmds烘箱 hmds疏水處理烘箱應(yīng)用多晶硅，石英，太陽能電池片、金屬、貴金屬、藍(lán)寶石、sic(碳化硅)、磷化銦、gan(氮化鎵)、zno（氧化鋅）、gao（氧化鎵）、金剛石等第三代半導(dǎo)體材料。
更新時間:2026-01-16
hmds烘箱 圖像反轉(zhuǎn)系統(tǒng) 六甲基二硅氮烷涂膠機(jī)使用hmds（六甲基二硅氮烷）對晶圓表面進(jìn)行快速、均勻、經(jīng)濟(jì)高效的涂布，以提高光刻膠的附著力。這些多功能系統(tǒng)還支持圖像反轉(zhuǎn)，形成具有與正光刻膠相同的分辨率和易用性的負(fù)圖像。
更新時間:2026-01-16
hdms烘箱 hdms真空烘箱 智能型hdms預(yù)處理烘箱保護(hù)裝置：緊急停止，hmds藥液泄漏報&警提示，hmds低液位報&警，超溫保護(hù)，漏電保護(hù)，過熱保護(hù)等
更新時間:2026-01-16
程控真空干燥箱 可程式真空烘箱 真空烤箱在實驗室、制藥、電子等行業(yè)，干燥工藝的效率與精度直接影響實驗結(jié)果與產(chǎn)品質(zhì)量。
更新時間:2026-01-16
紫外固化烘箱 真空紫外烘箱 uv固化真空烤箱主要應(yīng)用于uv膠水、uv 油墨、uv光油、uv 油漆、uv 涂料、薄膜等 uv 光感材料的固化，3d打印固化，新型材料改性、高分子化學(xué)、半導(dǎo)體材料光固化，以及高等院校和科研機(jī)構(gòu)的實驗室研究。
更新時間:2026-01-16
潔凈無氧烤箱 充氮潔凈烤箱 高溫固化烤箱支持mes等自動化通信端口， 內(nèi)置計時報警功能， 氧含量實時監(jiān)測（氧化鋯分析儀
更新時間:2026-01-16
高溫低濕烘箱 超低濕高溫烤箱應(yīng)用場景?：led燈珠、ic芯片等濕敏元器件需在40~90℃、濕度≤5％rh的烘箱中預(yù)烘烤，避免回流焊時出現(xiàn)“爆米花”效應(yīng)?
更新時間:2026-01-16
nh3氨氣烘箱 氨氣真空烘烤系統(tǒng) 氨氣圖形反轉(zhuǎn)爐使得光刻膠在半導(dǎo)體、光學(xué)器件及生物芯片等制造領(lǐng)域能夠更地適應(yīng)圖形轉(zhuǎn)移的需求，提升產(chǎn)品的制造質(zhì)量和精度。
更新時間:2026-01-16
petg/ipn/tpu膜材料烘箱 牙膠片防氧化烘箱 隱形正畸膜熱處理烤箱牙科膜片是一種常用的牙種材料，月于修復(fù)牙或進(jìn)行美容矯正。無氧烘箱也適用于lcp膜固化處理、pi固化、bcb等材料固化生產(chǎn)。
更新時間:2026-01-16
乙烯基三甲氧基硅烷涂膠機(jī) vtms蒸鍍機(jī) 硅烷偶聯(lián)劑氣相沉積系統(tǒng)在材料進(jìn)行表面改性，形成防水保護(hù)層，主要用于半導(dǎo)體、光電、生物新材料等表面處理工藝、機(jī)械乳化劑、橡膠粘結(jié)劑，化工油墨分散劑等用途。
更新時間:2026-01-16
箱式電阻爐，高溫馬弗爐為周期作業(yè)式電爐，可供工礦企業(yè)、科研等單位實驗室作化學(xué)分析、物理測定和一般小型鋼件熱處理時加熱之用。
更新時間:2026-01-16
pi真空固化烤箱，水冷卻pi固化爐用于光刻膠bcb，聚酰亞胺pi固化，晶圓干燥烘烤等工藝，主要用于集成電路、化合物半導(dǎo)體、mems微機(jī)電、tft/lcd等半導(dǎo)體相關(guān)行業(yè)。
更新時間:2026-01-16
pi亞胺化厭氧爐，pi真空厭氧烤箱用于光刻膠bcb，聚酰亞胺pi/cpi固化，lcp纖維熱處理，晶圓干燥烘烤等工藝，主要用于集成電路、化合物半導(dǎo)體、mems微機(jī)電、tft/lcd等半導(dǎo)體相關(guān)行業(yè)。
更新時間:2026-01-16
pi固化高溫烘箱，聚酰亞胺厭氧烤箱用于半導(dǎo)體/三代半導(dǎo)體/新材料/新能源等行業(yè)。bcb、pi、cpi、pbo膠固化，lcp新材料、鋰電池等產(chǎn)品熱處理。
更新時間:2026-01-16
充氮真空無氧烘箱的原理是一種利用真空厭氧固化的設(shè)備,它可以在無氧的環(huán)境下對一些特殊的膠水進(jìn)行快速固化,適用于半導(dǎo)體芯片、電子元器件、醫(yī)療器械等域。
更新時間:2026-01-16
hmds預(yù)處理系統(tǒng)在超薄鈮酸鋰材料的應(yīng)用它成功地將產(chǎn)品表面由親水變?yōu)槭杷?，其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。
更新時間:2026-01-16
真空熱風(fēng)烘箱，高溫?zé)犸L(fēng)真空烤箱用于聚酰亞胺pi膠、cpi膠、bcb膠固化、低k電介質(zhì)固化，lcp材料熱處理、鍵合材料預(yù)處理，fowlp扇出封裝，ito膜/鋁/銅退火，pbo膠固化等特殊工藝。
更新時間:2026-01-16
鈮酸鋰無氧烘箱用于半導(dǎo)體晶片、半導(dǎo)體封裝和mems器件的批量生產(chǎn)。主要用于聚酰亞胺pi膠、cpi膠、bcb膠固化、低k電介質(zhì)固化，lcp材料熱處理、鍵合材料預(yù)處理，fowlp扇出封裝，ito膜/鋁/銅退火，pbo膠固化等特殊工藝。
更新時間:2026-01-16
無氧固化爐,高溫?zé)o氧化固化烤箱應(yīng)用于半導(dǎo)體晶片、半導(dǎo)體封裝和mems器件的批量生產(chǎn)。主要用于pi/cpi固化，bcb固化，pbo固化，lcp纖維熱處理。
更新時間:2026-01-16
碳化硅hmds烘箱，sic襯底hmds烤箱成功地將硅片等襯底表面由親水變?yōu)槭杷?，其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。
更新時間:2026-01-16
hmds增粘劑烘箱，hmds涂膠機(jī)即hmds(六甲基二硅烷)增粘劑氣相涂布，涂膠工藝的配置機(jī)臺。該設(shè)備結(jié)合了有效的真空烘烤和蒸汽氣相涂布應(yīng)用方法。
更新時間:2026-01-16
烘可在熱烘板或氮?dú)夂嫦渲羞M(jìn)行,本課題采用的熱風(fēng)烘箱為雋思氮?dú)鉂崈艉嫦?，由于在鼓風(fēng)烘箱中對流烘烤將會使烘進(jìn)行的更加均勻，所以在鼓風(fēng)箱中烘的效果將會更理想。
更新時間:2026-01-16
js-hmds90烘箱采用真空蒸鍍的方法涂布hmds化合物。hmds烘箱在高溫條件下，達(dá)到真空狀態(tài)后開始涂布工藝，涂布完成后烘箱內(nèi)部充入n2，達(dá)到常壓后方可開門。
更新時間:2026-01-16
hmds增粘劑烘箱即hmds(六甲基二硅烷)增粘劑氣相涂布，涂膠工藝的配置機(jī)臺。該設(shè)備結(jié)合了有效的真空烘烤和蒸汽氣相涂布應(yīng)用方法。在使用同一腔室過程的過程，為脫水和蒸汽灌注創(chuàng)造了一個加熱的真空環(huán)境，大大降低了晶片再水化或污染的風(fēng)險。同時，提高了安全性，具有更好的安全保障。
更新時間:2026-01-16
箱體結(jié)構(gòu): 內(nèi)箱采用sus304/316l不銹鋼制作,以全周氬弧焊無縫處理; 外箱采用優(yōu)質(zhì)不銹鋼或冷軋板靜電噴塑處理; 外箱保溫材質(zhì)用高超細(xì)陶瓷纖維保溫,六面保溫斷熱,達(dá)到降低機(jī)臺表面溫度的目的。
更新時間:2026-01-16
該工業(yè)烘烤箱是一種新型可營造無氧潔凈恒溫環(huán)境的電熱鼓風(fēng)烘箱箱,在加溫工作的同時充入氮?dú)?適用高溫易氧化產(chǎn)品的烘烤加熱。
更新時間:2026-01-16
bcb作為一類高性能聚合物，以它特有的性質(zhì)，將會被越來越多地使用。bcb是具有優(yōu)良的熱穩(wěn)定性、化學(xué)穩(wěn)定性、電絕緣性和機(jī)械強(qiáng)度的高性能材料。在現(xiàn)代高技術(shù)域有非常重要的應(yīng)用。例如在微電子制造中，用作各類器件鈍化防護(hù)和層間介電等。
更新時間:2026-01-16
js-hmds90烘箱采用真空蒸鍍的方法涂布hmds化合物。hmds烘箱在高溫條件下，達(dá)到真空狀態(tài)后開始涂布工藝，涂布完成后烘箱內(nèi)部充入n2，達(dá)到常壓后方可開門。
更新時間:2026-01-16
碳化硅hmds烘箱，sic襯底hmds烤箱成功地將硅片等襯底表面由親水變?yōu)槭杷?，其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。
更新時間:2026-01-16
oap烘箱，oap處理烘箱處理主要是為了改善親水性表面，變?yōu)槭杷?，從而達(dá)到增加光刻膠粘附性的作用。
更新時間:2026-01-16
熱風(fēng)真空烘箱，真空+鼓風(fēng)一體烘箱主要用于bcb固化、pi固化、其他光刻膠固化、lcp熱處理等工藝
更新時間:2026-01-16
充氮烘箱是一種提供高溫凈化環(huán)境的特殊潔凈烘干設(shè)備。烘箱整機(jī)為不銹鋼結(jié)構(gòu)，全部采用無塵材料，箱內(nèi)持續(xù)充氮，使烘箱工作室內(nèi)處于潔凈狀態(tài)。工作室內(nèi)溫度由溫控儀自動控制，并有自動恒溫及時間控制裝置，并附設(shè)有超溫自動停止加熱及報警電路，控制可靠，使用安全。全周氬焊，耐高溫硅膠迫緊，sus304＃不銹鋼電熱產(chǎn)生器，防機(jī)臺本身產(chǎn)生微塵；耐高溫，可以達(dá)到和工作場同樣的地潔凈等；
更新時間:2026-01-16
lcp熱處理烘箱，lcp纖維氮?dú)夂嫦涫菍⒁壕Ь酆衔?lcp)當(dāng)加熱到足夠高的溫度，lcp熔融形成液晶熔融相(經(jīng)常叫做“各向異性相”)而不是各向同性熔融相。
更新時間:2026-01-16
馬弗爐，高溫電阻爐是分析實驗室樣品干法處理，冶金實驗室做熔融實驗，熱處理部門做退火、淬火等實驗，以及其他需要高溫的場合需要的加熱輔助設(shè)備，應(yīng)用廣泛。一體型馬弗爐是新研制生產(chǎn)的產(chǎn)品，該產(chǎn)品將爐體與控制部分做了整合，大的降低了所占空間面積。
更新時間:2026-01-16
箱式電阻爐，高溫馬弗爐為周期作業(yè)式電爐，可供工礦企業(yè)、科研等單位實驗室作化學(xué)分析、物理測定和一般小型鋼件熱處理時加熱之用。
更新時間:2026-01-16
無氧烘箱，光刻膠固化烘箱用于精密電子元件、pi膠固化烘烤、bcb固化，光刻膠固化、lcp液晶聚合物熱處理、電子陶瓷材料烘干的特殊工藝要求，
更新時間:2026-01-16
hmds預(yù)處理系統(tǒng)(js-hmds90 )將hmds氣相沉積至半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等材料表面后，經(jīng)系統(tǒng)加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?，其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。
更新時間:2026-01-16
真空無氧烘箱是一種提供高溫、低氧、潔凈環(huán)境的特殊制程設(shè)備。烘箱內(nèi)部為不銹鋼結(jié)構(gòu)，全部采用無塵材料，箱內(nèi)可充氮、真空，使烘箱工作室內(nèi)處于低氧、潔凈狀態(tài)。工作室內(nèi)溫度由溫控儀自動控制，并有自動恒溫及時間控制裝置，曲線升溫、恒溫、快速降溫。并附設(shè)有超溫斷開加熱、氧含量檢測、輔助降溫裝置及報警電路，控制可靠，使用安全。
更新時間:2026-01-16
應(yīng)用于精密電子元件、pi、bcb膠高溫固化烘烤、銀膠固化、光刻膠固化、電子陶瓷材料無塵烘干的特殊工藝要求，適用于觸摸屏、晶圓、led、pcb板、ito玻璃等精密電子、太陽能、新材料等行業(yè).
更新時間:2026-01-16
hmds烤箱，hmds真空烘箱即hmds(六甲基二硅烷)增粘劑氣相涂布成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。
更新時間:2026-01-16
潔凈烘箱，百潔凈烤箱用于半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠的預(yù)處理烘烤、涂膠后堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤；也適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、is、醫(yī)藥、實驗室等生產(chǎn)及科研部門；也可用于非揮發(fā)性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗。
更新時間:2026-01-16
充氮pi烘箱，pi充氮烤箱升溫速率可控，設(shè)定工藝曲線，一鍵運(yùn)行；輔助降溫縮短降溫時間，提高生產(chǎn)效率；可達(dá)到低氧環(huán)境，固化效果更佳。
更新時間:2026-01-16
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