鍍膜機產品及廠家

美國Denton Vacuum 金/碳鍍膜機
美國denton vacuum 金/碳鍍膜機,用于大型工業(yè)生產、科研開發(fā)和小規(guī)模制造。
更新時間:2026-01-15
英國Oxford Vacuum 電子束蒸發(fā)鍍膜機
英國oxford vacuum 電子束蒸發(fā)鍍膜機vapour station 4,是一款微納器件樣品制備系統(tǒng)，為有機無機多源有氣相分子沉積系統(tǒng)，高真空條件下，通過加熱材料的方法，在襯底上沉積各 種化合物、混合物單層或多層膜，具有高真空多源有機、金屬電阻蒸發(fā)及手 套箱保護條件下器件后期制作，主要用于有機半導體材料的物理化學性能，研究實驗、有機半導體器件的原理研究實驗也可用于普通金屬電蒸發(fā)鍍膜究。
更新時間:2026-01-15
法國Plassys微波等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)
法國plassys微波等離子體化學氣相沉積系統(tǒng) ssdr 150 ，門用于合成 cvd 金剛石薄膜，能夠制備高純單晶(需高純氣源）、厚單晶、大單晶、多晶薄膜、光學窗口。ssdr150 不斷優(yōu)化的微波及等離子體設計，是一款可靠的、穩(wěn)定的、長時間運行的金剛石薄膜生長系統(tǒng)，能夠完美地適用于高?？蒲泻推髽I(yè)生產。
更新時間:2026-01-15
英國HHV桌上型濺射鍍膜儀
英國hhv桌上型濺射鍍膜儀bt150和bt300,新系列小型桌上系統(tǒng)，觸摸屏顯示控制，適合于sem及tem電鏡樣品制備及常規(guī)科研的全功能系統(tǒng)。
更新時間:2026-01-15
日立Hitachi 離子濺射儀
日立hitachi 離子濺射儀 mc1000,采用lcd觸摸屏，可以更加簡便地設定加工條件,可處理較厚或較大的樣品(選配件),記憶功能可存儲常用加工條件.
更新時間:2026-01-15
美國Neocera脈沖激光沉積系統(tǒng)及脈沖電子束沉積系統(tǒng)
美國neocera pld 脈沖激光沉積系統(tǒng) p180 , 一種用途廣泛的、用于薄膜沉積以及納米結構和納米粒子合成的方法. ped 脈沖電子束沉積系統(tǒng) ped-180,是高能脈沖 (100ns) 電子束 ( 約 1000 a,15 kev) 在靶材上穿透將近 1 um，使靶材快速蒸發(fā)形成等離子體。對靶材的非平衡提?。疲┦沟入x子體的組成與靶材的化學計量組成一致。在最佳條件下，靶材的化學計量與沉積
更新時間:2026-01-15
六源有機無機聯(lián)合蒸發(fā)鍍膜設備
六源有機無機聯(lián)合蒸發(fā)鍍膜設備適用于制備金屬單質薄膜、半導體薄膜、氧化物薄膜、有機薄膜等，可用于科研單位進行新材料、新工藝薄膜研究工作，也可用于大批量生產前的試驗工作。opv系列真空蒸發(fā)鍍膜與手套箱聯(lián)合系統(tǒng)的用戶群體為科研院所及實驗室，將真空蒸發(fā)系統(tǒng)工作室置于glove box無水、無氧、無塵的超純環(huán)境中，pvd與glove box硬件無縫對接，操控融合一體，廣泛應用于有機、無機、鈣鈦礦薄膜太陽能電池、oled等研究領域。
更新時間:2026-01-15
DW-3A 真空鍍膜機配套冷水機
                    真空鍍膜機配套冷水機 一：產品系列型號：dw-a系
更新時間:2026-01-15
全自動熱蒸發(fā)鍍碳儀蒸碳儀噴碳儀鍍膜儀 納米碳膜實驗室儀器
全自動熱蒸發(fā)鍍碳儀蒸碳儀噴碳儀鍍膜儀 納米碳膜實驗室儀器優(yōu)勢看得見：1. 7英寸彩色觸摸屏，全數字顯示，直觀清晰；2. 具備脈沖加熱和連續(xù)加熱兩種工作模式，適用各種不同的樣品；3. 自動檢測每根碳繩的狀態(tài)，并在鍍膜過程中自動切換；4. 每根碳繩使用會進行自動除氣，確保碳膜的純凈度；5. 操作非常簡單，多只需設置兩個參數即可；
更新時間:2026-01-15
英國HHV公司多功能鍍膜設備
英國hhv公司的hhv auto系列產品是一種多功能鍍膜設備（熱阻蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)和濺射可選），設計用于滿足科研工作者和電子顯微學家的需求。auto系列可配備各種真空系統(tǒng)、真空腔室和標準化工藝附件，提供一系列實驗技術以滿足現(xiàn)代化實驗室的需要。張先生 139-（#qq.com）聯(lián)系人：張先生 139-115145
更新時間:2026-01-14
金剛石微波等離子CVD系統(tǒng)
美國cts公司提供的cts-6u型6kw微波等離子金剛石cvd系統(tǒng)具有高度可重復的真空完整性設計特點，能夠在接近大氣壓范圍內運行，用于高沉積速率的單晶工藝。它還可以合成高純度的高均勻性和大面積的單晶和多晶。腔室、觀察窗和沉積臺的設計與先進的計算機過程控制相結合，具有無人值守的安全互鎖功能，可以獲得高可靠性、長時間穩(wěn)定性。cts-6u是最新一代cvd金剛石反應器，專為滿足高產量、高質量、高性價比的生
更新時間:2026-01-14
上海伯東霍爾離子源 eH 2000,霍爾源,真空鍍膜離子源
上海伯東代理美國原裝進口 kri 霍爾離子源 eh 2000 是一款更強大的版本, 帶有水冷方式, 他具備 eh 1000 所有的性能, 低成本設計提供高離子電流, 特別適合大中型真空系統(tǒng). 通常應用于離子輔助鍍膜, 預清洗和低能量離子蝕刻.
更新時間:2026-01-14
上海伯東射頻離子源 RFICP 40,高能量射頻源,真空鍍膜離子源
上海伯東代理美國原裝進口 kri 射頻離子源 rficp 40 : 目 kri 射頻離子源 rficp 系列尺寸小, 低成本高效離子源. 適用于集成在小型的真空腔體內. 離子源 rficp 40 設計采用創(chuàng)新的柵技術用于研發(fā)和開發(fā)應用. 離子源 rficp 40 無需電離燈絲設計, 適用于通氣氣體是活性氣體時的工業(yè)應用. 標準配置下 rficp 40 離子能量范圍 100 至 1200ev,
更新時間:2026-01-14
上海伯東霍爾離子源 eH 400,真空鍍膜離子源
上海伯東代理美國原裝進口 kri 霍爾離子源 eh 400 低成本設計提供高離子電流, 霍爾離子源 eh 400 尺寸和離子能量特別適合中小型的真空系統(tǒng), 可以控制較低的離子能量, 通常應用于離子輔助鍍膜, 預清洗和低能量離子蝕刻.
更新時間:2026-01-14
上海伯東美國KRi 霍爾離子源 eH 系列,真空鍍膜離子源
美國 kri 霍爾離子源 eh 系列緊湊設計, 高電流低能量寬束型離子源, 提供原子等的細微加工能力, 霍爾離子源 eh 可以以納米精度來處理薄膜及表面, 多種型號滿足科研及工業(yè), 半導體應用. 霍爾離子源高電流提高鍍膜沉積速率, 低能量減少離子轟擊損傷表面, 寬束設計提高吞吐量和覆蓋沉積區(qū). 整體易操作, 易維護.
更新時間:2026-01-14
上海伯東美國 KRi 射頻離子源 RFICP 100,高能量射頻源
上海伯東代理美國原裝進口 kri 考夫曼型離子源 rficp 100 緊湊設計, 適用于離子濺鍍和離子蝕刻. 小尺寸設計但是可以輸出 >400 ma 離子流. 考夫曼型離子源 rficp 100 源直徑19cm 安裝在10”cf 法蘭, 在離子濺鍍時, 離子源配有離子光學元件, 可以很好的控制離子束去濺射靶材, 實現(xiàn)更佳的薄膜特性. 在離子刻蝕工藝中, 離子源與離子光學配合, 蝕刻更均勻. 標準配
更新時間:2026-01-14
上海伯東磁控共濺鍍設備,濺射鍍膜機,真空鍍膜機
上海伯東代理的磁控共濺鍍腔提供了準確控制多個磁控濺鍍的制程條件, 加裝美國 kri 離子源為客戶提供更好質量的復合式薄膜.單片和多片式的loading chamber, 可節(jié)省其制程腔體的抽氣時間, 進而節(jié)省整體實驗時間. 廣泛應用于半導體, 納米科技, 太陽能電池等行業(yè)以及氧化物, 氮化物和金屬材料的研究等.
更新時間:2026-01-14
上海伯東剝離成形電子束蒸鍍設備 Lift-Off,電子束蒸發(fā)系統(tǒng)
上海伯東代理剝離成形電子束設備可以準確的控制蒸發(fā)速度, 因此薄膜厚度和均勻度皆小于 ±3％, 客制化的基板尺寸, 大直徑可達 12寸晶圓, 腔體的限真空度約為 10-8 torr.
更新時間:2026-01-14
上海伯東美國 KRi射頻離子源 RFICP 140,高能量射頻源
上海伯東代理美國原裝進口 kri 射頻離子源 rficp 140 是一款緊湊的有柵離子源, 非常適用于離子束濺射沉積, 離子輔助沉積和離子束刻蝕. 在離子束濺射工藝中，射頻離子源 rficp 140 配有離子光學元件, 可以很好的控制離子束去濺射靶材, 實現(xiàn)更佳的薄膜特性. 同樣的在離子束輔助沉積和離子束刻蝕工藝中, 離子光學元件能夠完成發(fā)散和聚集離子束的任務. 就標準的型號而言, 可以在離子能
更新時間:2026-01-14
上海伯東超高真空電子束蒸鍍設備,電子束蒸發(fā)系統(tǒng),真空鍍膜機
上海伯東代理 syskey 臺灣矽碁科技超高真空電子束蒸鍍設備腔體限真空度約為 10-10torr, 針對超高真空和高溫加熱設計基板旋轉鍍膜機構, 使用陶瓷培林旋轉, 并在內部做水冷循環(huán)來保護機構以確保長時間運轉的穩(wěn)定性, 可以提供高質量的薄膜, 薄膜均勻度小于 ±3％.
更新時間:2026-01-14
上海伯東射頻離子源 RFICP 220,高能量射頻源
上海伯東代理美國原裝進口 kri 射頻離子源 rficp 220 高能量柵離子源, 適用于離子濺鍍, 離子沉積和離子蝕刻. 在離子束濺射工藝中, 射頻離子源 rficp 220 配有離子光學元件, 可以很好的控制離子束去濺射靶材, 實現(xiàn)更佳的薄膜特性. 同樣的在離子束輔助沉積和離子束刻蝕工藝中, 離子光學元件能夠完成發(fā)散和聚集離子束的任務. 標準配置下射頻離子源 rficp 220 離子能量范圍
更新時間:2026-01-14
上海伯東電子束蒸鍍設備 E-beam,電子束蒸發(fā)系統(tǒng)
上海伯東代理 syskey 臺灣矽碁科技電子束蒸鍍設備是一種實用且高度可靠的系統(tǒng), 蒸鍍系統(tǒng)可針對量產使用單一坩堝也可以有多個坩堝來達到產品多層膜結構. 在基板乘載上針對半導體研究和大型設備設計, 單片和多片公自轉的設計可以控制蒸發(fā)速率, 薄膜厚度和均勻度小于 +/- 3％. 腔體的限真空度約為 10-8 torr. 為了獲得盡可能大的制程靈活性, 可以結合美國 kri 離子源進行離子輔助沉積或
更新時間:2026-01-14
上海伯東美國 KRi 大面積射頻離子源 RFICP 380,高能量離子源
上海伯東美國 kri 大口徑射頻離子源 rficp 380, 3層柵設計, 柵口徑 38cm, 提供離子動能 100-1200ev 寬束離子束, 大離子束流 > 1000ma, 滿足 300 mm (12英寸)晶圓應用. 廣泛應用于離子束刻蝕機.
更新時間:2026-01-14
上海伯東超高真空磁控濺鍍設備,濺射鍍膜機,真空鍍膜機
上海伯東代理超高真空磁控濺鍍設備 uhv sputter 廣泛應用于半導體, 納米科技, 太陽能電池,科研等行業(yè), 氧化物, 氮化物和金屬材料的研究等.
更新時間:2026-01-14
上海伯東原子層沉積設備 Thermal ALD
上海伯東代理原子層沉積設備可以精準的控制 ald 的制程, 薄膜的厚度和均勻度皆小于 +/- 1％, 廣泛應用于 oled 和硅太陽能電池的鈍化層, 微機電系統(tǒng), 納米電子學, 納米孔結構薄膜, 光學薄膜, 薄膜封裝技術等域.
更新時間:2026-01-14
鍍碳儀JY-E120C
jy-e120c 鍍碳儀 是一款專為掃描電鏡（sem）和能譜分析（eds）樣品制備設計的專業(yè)設備。它通過高質量的碳蒸發(fā)技術，在非導電或低導電性樣品表面形成均勻、致密的導電碳層，從而有效防止電子束充電效應，確保獲得高分辨率、無偽影的電鏡圖像和準確的元素分析結果，是科研電鏡制樣工作的理想選擇。
更新時間:2026-01-13
支持云端圖像存儲，可遠程控制修改參數 野生動物調研多功能觸發(fā)相機 歐尼卡源頭廠家定制
歐尼卡onick am-38帶彩信版野生動物紅外監(jiān)測相機支持3000萬像素高清拍照，4k高清視頻拍攝。儀器啟動反應快，成像清晰，色彩真實。大可支持256gb sd存儲卡，兼容各種品牌。可搭載我司自主研發(fā)的云平臺圖像處理系統(tǒng)（軟著登記號：2022sr0370995），對抓拍到的圖片及視頻進行識別與分析，還可搭配手機app遠程控制相機（軟著登記號：2022sr0370994），遠程控制修改參數，
更新時間:2026-01-11
極域真空鍍膜系統(tǒng)上海喆圖
極域真空鍍膜系統(tǒng)以“真空性能”與“全域工藝覆蓋”為內核，成為半導體、光學、新能源等制造領域的標桿設備，助力客戶突破鍍膜技術瓶頸，實現(xiàn)“高精度、高效率、高回報”的智造升級。
更新時間:2026-01-07
德國徠卡高真空鍍膜機 Leica EM ACE600
leica em ace600是優(yōu)良的多用途高真空薄膜沉積系統(tǒng)，設計來根據您的fe-sem和tem應用的需要生產非常薄的，細粒度的和導電的金屬和碳涂層，用于高分辨率分析。
更新時間:2026-01-05
Ted Pella 108Auto 108鍍膜儀
技術參數：l自動的換氣與泄氣功能，可以得到一致的膜厚，和佳的導電噴鍍效果。l通過高效低壓直流磁控頭進行冷態(tài)精細的噴鍍過程，避免樣品表面受損。
更新時間:2025-12-27
優(yōu)勢供應比利時Almeco鼓風機-大連赫爾納
比利時almeco鼓風機，德國總部直接采購，原裝，貨期，支持技術選型，為您提供一對一優(yōu)勢解決方案：赫爾納大連公司在中國設有10個辦事處，可為您提供的維修服務。
更新時間:2025-12-27
全自動組織處理儀
全自動組織處理儀 lynx ii
更新時間:2025-12-24
縱向式Cat-CVD設備
縱向式cat-cvd設備ccv系列ccv series是a-si鍍膜用的縱向式cvd設備。有30年以上的量產實績。在各個chamber通過低壓鍍膜，得到高品質的膜質。
更新時間:2025-12-23
枚葉式PECVD設備
枚葉式pecvd設備cme-200e/400枚葉式pe-cvd設備cme-200e/400是適用于si系絕緣膜、barrier膜等成膜的量產用pecvd設備。
更新時間:2025-12-23
Load-lock式Plasma CVD設備
load-lock式plasma cvd設備 cc-200/400load-lock式plasma cvd設備cc-200/400是小型的使用便利的可對應從研究開發(fā)到量產的設備。
更新時間:2025-12-23
枚葉式等離子CVD設備
枚葉式等離子cvd設備cmd系列cmd系列是用sih4和teos成膜的a-si膜、氧化硅膜、氮化膜成膜用的枚葉式cvd設備。
更新時間:2025-12-23
實驗室流延薄膜機 單螺桿擠出機 小型流延薄膜機
實驗室流延薄膜機 單螺桿擠出機 小型流延薄膜機型號：aod-xh-432 設備規(guī)數 型號aod-xh-25 單螺桿擠出機 機架采用型鋼焊接而成,并經回應力處理,有較高的鋼性,變形小。料筒及螺桿 標配：3d混煉頭帶分散性單螺桿料筒及螺桿
更新時間:2025-12-18
大風量風機 2XB730-H37風帕克風機
大風量風機 2xb730-h37風帕克風機 4kw 380v 風量每小時420立方 -260/310mpar高壓、大風量、低噪音、輕量化 采用鋁合金材質，大幅降低重量，達到輕量化的目的。 馬達為i.e.c設計（1hp以上），全閉外扇形鋁框馬達，特殊軸設計，可適合長時間使用。 特殊葉片設計，壓力大、風量大、低噪音、壽命長
更新時間:2025-12-18
除濕設備風機 2XB910-H07貝富克風機
除濕設備風機 2xb910-h07貝富克風機 高壓力大風量 適用于切紙機、卷煙濾嘴成型機、電鍍槽液攪拌、霧化干燥機、水處理曝氣、絲網印刷機、照相制版機、注塑機自動上料烘干機、液體灌裝機、電焊設備、電影機械、紙張運送、干洗衣服、清洗、空氣除塵、干瓶、氣體傳送、送料、收集等方面。
更新時間:2025-12-18
貝富克風機2XB730-H26 貝富克高壓風機
貝富克風機2hb730-ah26 貝富克高壓風機，大風量 高壓力。風量420立方壓力-260/310mpar高壓、大風量、低噪音、輕量化 采用鋁合金材質，大幅降低重量，達到輕量化的目的。 馬達為i.e.c設計（1hp以上），全閉外扇形鋁框馬達，特殊軸設計，可適合長時間使用。 特殊葉片設計，壓力大、風量大、低噪音、壽命長
更新時間:2025-12-18
低真空鍍膜儀CCU-O10LV
啟用簡單，服務方便拆開包裝，連接線路，直接起動！省去了高昂的啟用成本。設備采用即插即用概念，您自己就能啟用。您只需接通電源和工藝氣體即可。憑借一體式usb服務接口，服務技工可以在現(xiàn)場或者通過互聯(lián)網遠程進行快速錯誤分析。采用模塊化配置，可以有指向性地更換有缺陷的部件。
更新時間:2025-12-02
金/碳鍍膜機
丹頓真空公司位于美國費城，是世界著名真空鍍膜設備制造商。從1964年成立至丹頓已為全球客戶制造了數千臺多種規(guī)格的蒸發(fā)設備、濺射和pecvd鍍膜系統(tǒng)，用于大工業(yè)生產、科研開發(fā)和小規(guī)模制造。丹頓用于科研開發(fā)和小規(guī)模制造的中小型鍍膜設備據美國市場占有率之首。
更新時間:2025-12-02
高真空鍍膜儀CCU-O10HV
ccu-010 鍍膜機提供兩種款型。ccu- 010 lv低真空鍍膜機，ccu- 010 hv 高真空鍍膜機。采用模塊化概念，便于以后把低真空鍍膜機轉變?yōu)楦哒婵斟兡C。
更新時間:2025-12-02
低真空鍍膜儀CCU-O10LV
ccu-010 鍍膜機提供兩種款型。ccu- 010 lv低真空鍍膜機，ccu- 010 hv 高真空鍍膜機。采用模塊化概念，便于以后把低真空鍍膜機轉變?yōu)楦哒婵斟兡C
更新時間:2025-12-02
SC-DP-I 桌面型提拉鍍膜機
sc-dp-i型桌面型提拉鍍膜機 性能特點：· 采用 4.3 寸彩色觸摸屏、bamboo 觸控筆，圖形化界面操作方便·&n
更新時間:2025-12-02
上海到漢中物流公司A
上海到漢中物流公司 從上海貨運到漢中需要多少錢？貨運公司哪家好?推薦漢中物流400-697-cc，兢兢業(yè)業(yè)，風雨無阻，公司專業(yè)承接；
更新時間:2025-12-01
紗線捻度機
用于測定棉、毛、絲、麻、化纖等紗線的捻度。性能符合gb/2543.1和gb/t2543.2的規(guī)定。
更新時間:2025-11-14

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