儀器用途:具有相同頻率、相同的振動(dòng)方向和恒定相位差的光線,在空間疊加會(huì)發(fā)生干涉現(xiàn)象,這就是光波的干涉原理。利用光波的干涉原理和顯微鏡非接觸檢測(cè)特點(diǎn)對(duì)試樣表面上高度極微小差別進(jìn)行測(cè)量。這類顯微鏡依據(jù)所測(cè)光潔度▽3-▽9/0.8-80um為光切法顯微鏡,▽10-▽14/1-0.03um為干涉顯微鏡。適用于測(cè)量零件表面刻線,鍍層深度等,配以特殊的附件還能測(cè)量顆粒加工紋路面,低反射率的工件表面,對(duì)大型工件作表面測(cè)量時(shí),可將儀器倒置在工件上。
更新時(shí)間:2025-06-23