400℃小型管式爐gsl-1400x是小型高溫管式爐，采用高純氧化鋁剛玉爐管和硅碳棒加熱元件，設(shè)有兩個(gè)真密封法蘭，控制系統(tǒng)采用高精度可控硅移相觸發(fā)控制，其控溫精度為±1℃，可設(shè)置30段升降溫程序，最高溫度可達(dá)1400℃。

1600℃雙溫區(qū)高溫真空管式爐gsl-1600x-ⅱ每個(gè)加熱區(qū)域長(zhǎng)300mm，由30段智能溫度調(diào)節(jié)儀進(jìn)行控溫，采用硅鉬棒加熱元件溫度可達(dá)1600℃，采用硅碳棒加熱元件溫度可達(dá)1400℃，通過調(diào)節(jié)兩個(gè)溫區(qū)的控溫程序使?fàn)t管內(nèi)溫度場(chǎng)形成一溫度梯度。本機(jī)可用于cvd或pvd方法來生長(zhǎng)納米材料和制作各種薄膜?？販貎x表操作視頻

1500℃真空立式淬火爐otf-1500x-80-vtq一款是立式可開啟真空管式淬火爐，配有一個(gè)密封的液體容器用于樣品淬火，樣品可從最高溫度1500℃環(huán)境中快速落入冰水或冷油中，可用于研究材料相轉(zhuǎn)變和微結(jié)構(gòu)性能。

1200℃五溫區(qū)開啟式管式爐otf-1200x-v每個(gè)溫區(qū)分別由獨(dú)立的溫控系統(tǒng)控制，通過調(diào)節(jié)各個(gè)溫區(qū)的溫度，可以在加熱區(qū)內(nèi)形成四段溫度梯度，或形成較長(zhǎng)的恒溫區(qū)域。本機(jī)用于高等院校、科研院所、工礦企業(yè)等實(shí)驗(yàn)或小批量生產(chǎn)，主要針對(duì)電子陶瓷的預(yù)燒、燒結(jié)、鍍膜、高溫?zé)峤獾蜏爻练e（cvd）等工藝。具有控溫精度高，保溫效果好，溫度范圍大，溫度均勻性高，溫區(qū)多，可通氣氛抽真空及安全可靠、操作簡(jiǎn)單等特點(diǎn)。

1200℃三溫區(qū)開啟式管式爐otf-1200x-ⅲ每個(gè)溫區(qū)分別由獨(dú)立的溫控系統(tǒng)控制，具有控溫精度高，保溫效果好，溫度范圍大，溫度均勻性高，溫區(qū)多等特點(diǎn)。本機(jī)可通氣氛抽真空，操作簡(jiǎn)單，安全可靠。

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