該設備是一款小型磁控濺射鍍膜儀，主要特點是設備體積小，結(jié)構(gòu)簡單緊湊易于操作，對實驗室供電要求低；該系列設備主要部件采用進口或者國內(nèi)最優(yōu)的配置，從而提高設備的穩(wěn)定性；另外自主開發(fā)的智能操作系統(tǒng)在設備的運行重復性及安全性方面得到更好地保障。該設備標配2只φ2英寸永磁靶，一臺500w直流濺射電源（用于濺射金屬導電材料），1臺300w全自動匹配射頻濺射電源（用于

系統(tǒng)由真空腔室（外延室、進樣室）、樣品傳遞機構(gòu)、樣品架、旋轉(zhuǎn)靶臺、真空排氣、真空測量、電器控制、配氣、計算機控制等各部分組成。1、★★外延室：極限真空優(yōu)于：5.0x10-8pa真空漏率小于2.0x10-8pa.l/s

本設備可以在不破壞真空或是保護氣氛的情況下進行樣品的反轉(zhuǎn)熔煉，可以同時制備多個樣品（7個以下），用于新型合金材料的制備、提純及混合應用，也可以用于熔煉高熔點金屬/合金，電弧法制備大塊非晶材料。本設備采用雙層水冷結(jié)構(gòu)，配備水冷循環(huán)機（加去離子水）使設備可以快速冷卻，適用于高校、科研院所及企業(yè)進行真空冶金新材料的科研與小批量制備。

主要應用于鐵基、鎳基、鈷基合金及其它精密合金、高溫合金、磁性材料的熔煉?！　崿F(xiàn)真空熔煉、氣氛熔煉、真空澆鑄、精密鑄造、離心鑄造、下引鑄造、定向凝固、快速冷卻、精煉提純等工藝