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Scaler HK430熱原子層沉積系統(tǒng)
scaler hk430 熱原子層沉積系統(tǒng)填孔能力以及良好的薄膜均勻性
更新時(shí)間:
2025-06-13
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司
Propel HVM GaN金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積
propel hvm gan mocvd 系統(tǒng),用于電源、5g 射頻和光子學(xué),單晶圓反應(yīng)器技術(shù)為電源、5g 射頻和光子學(xué)應(yīng)用提供高效、高質(zhì)量的氮化鎵基器件
更新時(shí)間:
2025-06-13
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司
OCTOS™自動薄膜沉積簇工具
kurt j. lesker company octos集群工具是經(jīng)過驗(yàn)證的研發(fā)和中試生產(chǎn)系統(tǒng),用于在多個工藝室之間進(jìn)行真空傳輸。®
更新時(shí)間:
2025-06-13
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司
For Half Mirror Coating部件鍍膜設(shè)備
在高真空環(huán)境中,我們發(fā)明了一種創(chuàng)新的in-line sputter生產(chǎn)技術(shù),實(shí)現(xiàn)了高大量生產(chǎn)率和出色的品質(zhì)。這款1carrier/20sheet(a4 size)產(chǎn)品采用了both side sputtering工藝,不僅提高了生產(chǎn)效率,還確保了優(yōu)異的光學(xué)性能,透過率可達(dá)25%以上。
更新時(shí)間:
2025-06-13
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司
KaRoll RTR1C卷對卷濺射系統(tǒng)
本裝置在真空狀態(tài)中對pet film,以ito或metal coating的設(shè)備, heating, plasma etching, sputter工序可以.
更新時(shí)間:
2025-06-13
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司
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TECHNI-PRO鑷子758TW446
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ossila沉積掩模
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1000V一體式直流計(jì)量表 直流充電樁用
2025/7/17 17:31:27
ossila聚丙烯燒杯
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千尋星云V3工程型慣導(dǎo)RTK 好用實(shí)惠
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