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美國 DeBEE 2000 新一代改進(jìn)型超高壓對射流均質(zhì)機(jī)
美國 debee 2000 新一代改進(jìn)型超高壓對射流均質(zhì)機(jī)的詳細(xì)描述： 主要技術(shù)參數(shù)：專利型debee特有的乳化分散均質(zhì)核心件。分散均質(zhì)部件可自行調(diào)控，為您提供廣泛的實(shí)驗(yàn)室應(yīng)用。僅一次制程就可使產(chǎn)品達(dá)到預(yù)想的處理目標(biāo)plc電控及簡易按鈕操作的監(jiān)控系統(tǒng)面板二臺同步的增壓腔，保證持續(xù)穩(wěn)定的制程高壓最高使用壓力可達(dá)45000psi(310mpa)可調(diào)背壓：0~5000 psi(34.5mpa)電源為二相的220v最大持續(xù)處理流量為1l/min操作樣品標(biāo)準(zhǔn)量為50ml，最小量為10ml配備物料在線冷卻罐電源380v-50hz-3相-7.5k
更新時(shí)間:2025-07-17
美國 DeBEE 2000P 生產(chǎn)型 新一代改進(jìn)型超高壓對射流均質(zhì)機(jī)
美國 debee 2000p 生產(chǎn)型 新一代改進(jìn)型超高壓對射流均質(zhì)機(jī)的詳細(xì)描述： 主要技術(shù)參數(shù)：專利型debee特有的乳化分散均質(zhì)核心件。分散均質(zhì)部件可自行調(diào)控，為您提供廣泛的實(shí)驗(yàn)室應(yīng)用。僅一次制程就可使產(chǎn)品達(dá)到預(yù)想的處理目標(biāo)plc電控及簡易按鈕操作的監(jiān)控系統(tǒng)面板多臺同步工作的增壓腔，保證持續(xù)穩(wěn)定的制程高壓內(nèi)部結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)合理，空間占用小。最高使用壓力可達(dá)45000psi(310mpa)可調(diào)背壓：0~5000 psi(34.5mpa)電源為二相的220v最大處理流量為2l-100l/min電源380v-50hz-3相-20hp-250hp（
更新時(shí)間:2025-07-17

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